真空蒸發(fā)鍍膜是用空心陰極電子槍利用低電壓，大電流的空心陰極放電產生的等離子電子束作為加熱源?？招年帢O電子槍用空心的鉭管作為陰極，坩鍋作為陽極，鉭 管附近裝有輔助陽極。利用空心陰極電子槍蒸鍍時，產生的蒸發(fā)離子能量高，離化率也高，因此，成膜質量好?？招年帢O電子槍對真空室的真空度要求比e型電子槍 低，而且是使用低電壓工作，相對來說，設備較簡單和安全，造價也低。目前，在我國e型電子槍和空心陰極電子槍都已成功地應用于蒸鍍及離子鍍的設備中。槍的 功率可達10幾萬千瓦，已經為機械，電子等工業(yè)鍍出了各種薄膜。

電子束蒸發(fā)源的有點為：

1）電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度?？梢詫⒏哌_3000度以上的材料蒸發(fā)，并且能有較高的蒸發(fā)速度；

2）由于被蒸發(fā)的材料是置于水冷坩鍋內，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應，這對提高鍍膜的純度極為重要；

3）熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高，熱傳導和熱輻射的損失少。

1.3 高頻感應蒸發(fā)源蒸鍍法

高頻感應蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈中央，使蒸發(fā)材料在高頻帶內磁場的感應下產生強大的渦流損失和磁滯損失（對鐵磁 體），致使蒸發(fā)材料升溫，直至氣化蒸發(fā)。膜材的體積越小，感應的頻率就越高。在鋼帶上連續(xù)真空鍍鋁的大型設備中，高頻感應加熱蒸鍍工藝已經取得令人滿意的 結果。